▶清洗

        – 半导体晶片清洗 工程 实例

           √清洁效率提高6倍

              * UFB自身清洁能力2倍

              * UFB溶解力增加导致的臭氧浓度高3倍

              ⇒缩短清洗时间及节省费用

             
   

▶之前二流体(AA) 对比,清洁力增加2倍以上